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第一三八八章 自作自受（第1页）

时刻关注光刻机技术进展的孙健，如今还没有听说台积电的林博士在国际半导体研讨会上提出研发“沉浸式光刻”的设想。

“沉浸式光刻”就是在晶圆光刻胶上方加一层水，水的介质折射率是144，193n144≈134n，在不改变光刻机波长情况下，变相扩大了na，使得193n波长的能等效出134n的波长。

前世，林博士拿着这项“沉浸式光刻”方案，跑遍美国、德国、日本等国，游说各家半导体巨头，但都吃了闭门羹。

nikon警告台积电高层，让林博士“不要搅局”。

实力最差的asl决定赌一把，相比之前在传统干式微影上的投入，押注浸润式技术更有可能以小博大，于是和林博士一拍即合，仅用一年时间，就拼全力造出了还未完，请后面精彩内容！